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DUVとEUV Photoresistは製品タイプによって主要な供給企業が異なります。本記事では、タイプ別の違いを踏まえながらDUVとEUV Photoresist市場の世界シェアと主要企業を整理します。
DUVとEUV Photoresistの主な製品タイプ
- EUV Photoresists
- Arfi Photoresists
- ARFドライフォトレジスト
- KRFフォトレジスト
タイプ別に見た供給構造
DUVおよびEUV用フォトレジスト市場は、主に露光光源の波長とそれに対応する解像性能によって製品タイプが区分されます。EUVフォトレジストは13.5nmという極端紫外線を用いるため、超微細パターン形成に必須ですが、高真空環境への適合性や感度、ラインエッジラフネスの制御が極めて難しく、材料設計には高度な化学的知見と膨大な研究開発投資が必要です。一方、ArFiフォトレジストは193nmの液浸露光技術に対応し、ArFドライフォトレジストよりも高解像度を実現しますが、液浸プロセス特有の水との相互作用を考慮した添加剤設計が技術的な障壁となります。ArFドライフォトレジストは同193nm光源を使用するものの、液浸非対応のためやや低解像度であり、コストと性能のバランスが重視されます。KrFフォトレジストは248nmの光源を利用し、比較的成熟した技術ですが、やはり感度と解像度の両立が求められます。これら各タイプは使用するポリマー骨格や光酸発生剤の化学構造が根本的に異なるため、一社ですべてに対応するには膨大な専門知識と生産設備が必要となり、その結果、サプライヤーは自社のコア技術に最も合致する特定のレジストタイプに特化することで、競争力を維持しています。
主要な供給企業
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. (TOK)
- JSR
- Shin-Etsu Chemical
- DuPont
- Fujifilm
- Sumitomo Chemical
- Dongjin Semichem
- YCCHEM Co., Ltd
- Xuzhou B & C Chemical
- Red Avenue
- Crystal Clear Electronic Material
- SK Materials Performance (SKMP)
- Xiamen Hengkun New Material Technology
- Zhuhai Cornerstone Technologies
- SINEVA
- Guoke Tianji
- Jiangsu Nata Opto-electronic Material
- Shanghai Sinyang Semiconductor Materials
- Merck KGaA (AZ)
各社が強いセグメント
DUVおよびEUVフォトレジスト分野において、主要サプライヤー各社はそれぞれ得意とするセグメントでリーダーシップを発揮しています。EUVフォトレジストでは、東京応化工業（TOK）が業界を先導する存在であり、最先端の極微細加工向け材料で高い競争力を有しています。JSRもこの領域で重要なポジションを固めており、信頼性の高い製品を提供しています。ArFiフォトレジスト（液浸露光用）においては、JSRとTOKが市場を二分する形で主導しており、信越化学工業やDuPontも強固な地位を築いています。ArFドライフォトレジストでは、信越化学工業が高い技術力でシェアを伸ばし、富士フイルムもこの分野で存在感を示しています。KrFフォトレジストでは、東京応化工業と信越化学工業が長年にわたりリーダー的な立場にあり、住友化学やDongjin Semichemも安定した供給力を持つ一方、上海新陽半導体材料や江蘇南大光電材料などの中国勢も着実にシェアを拡大しています。Merck KGaA（AZ）やCrystal Clear Electronic Materialなども各セグメントで重要なプレーヤーとして市場を支えています。
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